日本日立 光譜儀

由于行業(yè)法規(guī)日益嚴(yán)格，供應(yīng)鏈變得復(fù)雜以及更多地使 用廢料作為基礎(chǔ)材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將 雜質(zhì)和痕量元素控制在*低ppm范圍內(nèi)。在過(guò)去，這一 級(jí)別的OES對(duì)許多企業(yè)而言是遙不可及。日立分析儀器 推出的新型OE750可改變這一現(xiàn)狀。

日立的這款全新OES可用于分析所有主要合金元素，并 識(shí)別金屬中含量極低的雜質(zhì)、痕量元素和關(guān)心元素，如 鋼中的氮。 OE750的測(cè)量速度快、可靠性高且運(yùn)營(yíng)成本 低，可進(jìn)行高性?xún)r(jià)比的日常分析和全面質(zhì)量控制，其性 能可與更大、更貴的光譜儀媲美。

德國(guó)制造的OE750的設(shè)計(jì)離不開(kāi)日立45余年的金屬行業(yè) 經(jīng)驗(yàn)的支撐。從測(cè)量鋼鐵中的氮到鋁中的磷 ，這款分析 儀可提供滿足當(dāng)今嚴(yán)格規(guī)范所需的全面金屬分析。 日立分析儀器的OE750是可進(jìn)行快速、全面的金屬質(zhì)量 分析的經(jīng)濟(jì)適用儀器，可滿足一切需求。

日本日立 光譜儀

我們?nèi)绾翁岣?性?xún)r(jià)比

這*取決于技術(shù)。

OE750采用*先進(jìn)的半導(dǎo)體探測(cè)器和新型光學(xué)概念（四項(xiàng)*利 正在申請(qǐng)中）。這使得日立的OES光譜儀在同類(lèi)產(chǎn)品中具有* 高光學(xué)分辨率，因此您不必在高性能和低成本之間作出選擇。

動(dòng)態(tài)CMOS檢測(cè)器的創(chuàng)新使用以及將光學(xué)系統(tǒng)直接接合至火花 臺(tái)可確保*佳照度以及119nm至766nm的波長(zhǎng)范圍。這包括 從氫到鈾的所有元素，用于全元素分析*。這種性能通常只適 用于*端質(zhì)量控制儀器，但OE750可通過(guò)創(chuàng)新、低氬和低功耗 降低成本。

OE750在元素選擇上具有大大的靈活性，能使操作適合未來(lái)需 要。

*大可靠性和*短停 機(jī)時(shí)間

| OE750旨在保持運(yùn)行不間斷。其 維護(hù)時(shí)間被縮至小；例如，只 需每隔幾千次測(cè)量*清理一次火花 臺(tái)，標(biāo)準(zhǔn)化間隔通常是幾周甚至幾 個(gè)月。由此可實(shí)現(xiàn)每周節(jié)省2個(gè)小 時(shí)。

| 此外，新開(kāi)發(fā)的數(shù)字火花光源將提 供更好的可靠性以及每個(gè)元素的* 佳能量激發(fā)脈沖，從而提高分析的 精密度。